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X射线衍射仪
Rigaku D/max 2550V 18kW高功率转靶X射线衍射仪 | |
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联系人:孙玥、程国峰 地址:上海市定西路1295号3#楼203室 电话:021-52413201,021-52414219 |
仪器参数: X射线发生器:功率18kW(40kV,450mA),Cu旋转阳极靶 扫描方式:θ-2θ测角仪 X射线发生器稳定度:<0.01% 测角仪精度(2θ):0.002° 附件:多目的测试附件MPA-2000,高温装置SHT-1500 应用范围: 掠入射XRD、残余应力、常规XRD扫描、物相定性分析、物相定量分析、结晶度、晶胞参数精确计算、晶粒尺寸(微观应力)、Rietveld结构精修等 。 | |
Bruker D8 ADVANCE高分辨率粉末X射线衍射仪 | |
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联系人:孙玥、程国峰 地址:上海市定西路1295号3#楼203室 电话:021-52413201,021-52414219 |
仪器参数: X射线发生器:Cu靶,功率3kW,陶瓷光管 扫描方式:θ-θ测角仪 探测器:LynxEye阵列探测器 (角度分辨率0.037°,衍射强度达108cps) 应用范围: 常规XRD扫描、物相定性分析、物相定量分析、结晶度、晶胞参数精确计算、晶粒尺寸(微观应力)、Rietveld结构精修等 。 | |
Bruker D8 ADVANCE高分辨率粉末X射线衍射仪 | |
联系人:阮音捷、程国峰 地址:上海市和硕路585号E楼201室 电话:021-69163600、021-69163558 | |
仪器参数: 3kW陶瓷X光管、可变狭缝、能量色散二维阵列探测器(能量分辨率小于380eV)、动态光路优化系统 应用范围: 常规XRD扫描、物相定性分析、物相定量分析、结晶度、晶胞参数精确计算、晶粒尺寸(微观应力)、Rietveld结构精修等 | |
Bruker D8 Discover高功率转靶X射线衍射仪 | |
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联系人:阮音捷、程国峰 地址:上海市和硕路585号E楼201室 电话:021-69163600、021-69163558 |
仪器参数: 旋转阳极Cu靶;X射线发生器最大输出功率6kW,额定电压40kV,额定电流150mA;能量色散阵列探测器的能量分辨率优于380eV;高精度五轴尤拉环样品台。 应用范围: 掠入射XRD、常规XRD扫描、物相定性分析、物相定量分析、结晶度、晶胞参数精确计算、晶粒尺寸(微观应力)、Rietveld结构精修等 | |
Bruker D8 Discover微焦斑二维X射线衍射仪 | |
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联系人:阮音捷、程国峰 地址:上海市和硕路585号E楼201室 电话:021-69163600、021-69163558 |
仪器参数: 微聚焦X射线光源IμS,光源通量(出光口,配合多层膜反射镜子):不小于1.0x1010cps/mm2 探测器有效面积:≥140mm ×140mm 像素尺寸:不大于68μm×68μm 最小光斑尺寸20μm 样品台:高精度五轴尤拉环样品台 应用范围: 1. 微区XRD分析 2. 残余应力测定 3. 织构测定 4. 高通量XRD表征 | |
Bruker D8 Advance原位X射线衍射仪 | |
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联系人:阮音捷、程国峰 地址:上海市和硕路585号E楼201室 电话:021-69163600,021-69163558 |
仪器参数: X射线发生器:Cu靶,功率3kW,陶瓷光管 扫描方式:θ-θ测角仪 探测器:LynxEye阵列探测器 温度范围:RT-1600℃、-180-450℃、RT-900℃、RT-2300℃ 原位附件:RT-900℃原位化学反应池(可通H2/O2、加压)、电催化原位反应池、锂(空)电池原位反应池、电场原位(场强:0-6MV·m-1) 应用范围: 1、可进行粉体、块体、薄膜等材料在真空、N2气、Ar气等环境下的高低温X射线分析,用来研究材料的相变过程及热力学性质; 2、可进行材料的原位化学反应、原位电催化X射线衍射研究;可进行锂(空)电池的原位X射线衍射研究; 3、可进行电场作用下材料的晶体结构演化研究。 | |
Bruker D8 Discover高分辨X射线衍射仪 | |
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联系人:阮音捷、程国峰 地址:上海市和硕路585号E楼201室 电话:021-69163600,021-69163558 gfcheng@mail.sic.ac.cn |
仪器参数: X射线发生器:Cu靶,功率3kW,陶瓷光管 扫描方式:θ-θ测角仪 探测器:LynxEye阵列探测器、NaI闪烁计数器 光学附件:Gobel镜、Ge(022)分析晶体 高精度五轴全自动尤拉环: CHI圆 -11°-- 98°;PHI圆,360度 ;X轴平移, 80mm ;Y轴平移, 80mm;Z轴平移, 2mm 高温附件:RT-900℃ 应用范围: 1、薄膜掠入射分析(GID):精确分析多层膜中材料的组成、次序、取向等; 2、薄膜反射分析(XRR):针对多晶、单晶多层薄膜厚度、密度、粗燥度进行精确分析; 3、高分辨衍射(HRXRD):针对高质量的外延薄膜、单晶材料,开展摇摆曲线,倒易空间mapping分析。 4、可进行单晶外延膜等材料的退火研究/高温下的高分辨X射线衍射表征。 | |
Bruker D8 VENTURE微焦斑转靶单晶X射线衍射仪 | |
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联系人:阮音捷、程国峰 地址:上海市和硕路585号E楼201室 电话:021-69163600、021-69163558 |
仪器参数: 二维面探测器:采用CMOS成像技术探测器 Mo光源:阳极自转靶 光学系统:多层膜微聚焦光学系统 三轴(ω,2θ,φ)测角仪:角度重现性±0.0001° 液氮低温系统:温度范围80-500K 应用范围: 1.单晶体原子坐标、键长键角、构型、原子的热振动、电子分布等结构信息表征; 2.单晶体原子占位、缺陷、成键作用等微观结构等信息的表征; 3.中低温下单晶材料的结构解析。 |