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X射线衍射仪


Rigaku D/max 2550V 18kW高功率转靶X射线衍射仪

联系人:阮音捷、程国峰

地址:上海市和硕路585号E楼201室

电话:021-69163600、021-69163558

邮件:ryj@mail.sic.ac.cn

gfcheng@mail.sic.ac.cn


  仪器参数:

  X射线发生器:功率18kW(40kV,450mA),Cu旋转阳极靶  

  扫描方式:θ-2θ测角仪  

  X射线发生器稳定度:<0.01%  

  测角仪精度(2θ):0.002°  

  附件:多目的测试附件MPA-2000,高温装置SHT-1500     

  应用范围:

  掠入射XRD、残余应力、常规XRD扫描、物相定性分析、物相定量分析、结晶度、晶胞参数精确计算、晶粒尺寸(微观应力)、Rietveld结构精修等 。 

Bruker D8 ADVANCE高分辨率粉末X射线衍射仪

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gfcheng@mail.sic.ac.cn


  仪器参数:

  X射线发生器:Cu靶,功率3kW,陶瓷光管  

  扫描方式:θ-θ测角仪  

  探测器:LynxEye阵列探测器 (角度分辨率0.037°,衍射强度达108cps)  

  应用范围:

  常规XRD扫描、物相定性分析、物相定量分析、结晶度、晶胞参数精确计算、晶粒尺寸(微观应力)、Rietveld结构精修等 。 

Bruker D8 ADVANCE高分辨率粉末X射线衍射仪

联系人:阮音捷、程国峰

地址:上海市和硕路585号E楼201室

电话:021-69163600、021-69163558

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  仪器参数:

  3kW陶瓷X光管、可变狭缝、能量色散二维阵列探测器(能量分辨率小于380eV)、动态光路优化系统 

  应用范围:

  常规XRD扫描、物相定性分析、物相定量分析、结晶度、晶胞参数精确计算、晶粒尺寸(微观应力)、Rietveld结构精修等 

Bruker D8 Discover高功率转靶X射线衍射仪

联系人:阮音捷、程国峰

地址:上海市和硕路585号E楼201室

电话:021-69163600、021-69163558

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gfcheng@mail.sic.ac.cn


  仪器参数:

  旋转阳极Cu靶;X射线发生器最大输出功率6kW,额定电压40kV,额定电流150mA;能量色散阵列探测器的能量分辨率优于380eV;高精度五轴尤拉环样品台。 

  应用范围:

  掠入射XRD、常规XRD扫描、物相定性分析、物相定量分析、结晶度、晶胞参数精确计算、晶粒尺寸(微观应力)、Rietveld结构精修等 

Bruker D8 Discover微焦斑二维X射线衍射仪

联系人:阮音捷、程国峰

地址:上海市和硕路585号E楼201室

电话:021-69163600、021-69163558

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  仪器参数:

  微聚焦X射线光源IμS,光源通量(出光口,配合多层膜反射镜子):不小于1.0x1010cps/mm2

  探测器有效面积:≥140mm ×140mm 

  像素尺寸: 不大于68μm×68μm   

  最小光斑尺寸20μm  

  样品台:高精度五轴尤拉环样品台 

  应用范围:

  1. 微区XRD分析 

  2. 残余应力测定 

  3. 织构测定 

  4. 高通量XRD表征 

Bruker D8 Advance原位X射线衍射仪

联系人:阮音捷、程国峰

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电话:021-69163600、021-69163558

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  仪器参数:

  X射线发生器:Cu靶,功率3kW,陶瓷光管  

  扫描方式:θ-θ测角仪  

  探测器:LynxEye阵列探测器  

  温度范围: RT-1600℃、-180-450℃、RT-900℃、RT-2300℃ 

  原位附件:RT-900℃原位化学反应池(可通H2/O2、加压)、电催化原位反应池、锂(空)电池原位反应池、电场原位(场强:0-6MV·m-1) 

  应用范围:

  1、可进行粉体、块体、薄膜等材料在真空、N2气、Ar气等环境下的高低温X射线分析,用来研究材料的相变过程及热力学性质; 

  2、可进行材料的原位化学反应、原位电催化X射线衍射研究;可进行锂(空)电池的原位X射线衍射研究; 

  3、可进行电场作用下材料的晶体结构演化研究。 

Bruker D8 Discover高分辨X射线衍射仪


联系人:阮音捷、程国峰

地址:上海市和硕路585号E楼201室

电话:021-69163600、021-69163558

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仪器参数:

X射线发生器:Cu靶,功率3kW,陶瓷光管  

扫描方式:θ-θ测角仪  

探测器:LynxEye阵列探测器、NaI闪烁计数器  

光学附件:Gobel镜、Ge(022)分析晶体  

高精度五轴全自动尤拉环:CHI圆-11°-98°;PHI圆,360度;X轴平移, 80mm;Y轴平移,80mm;Z轴平移,3mm  

高温附件:RT-1100℃ 

应用范围:

1、薄膜掠入射分析(GID):精确分析多层膜中材料的组成、次序、取向等;

2、薄膜反射分析(XRR):针对多晶、单晶多层薄膜厚度、密度、粗糙度进行精确分析;

3、高分辨衍射(HRXRD):针对高质量的外延薄膜、单晶材料,开展摇摆曲线、倒易空间mapping分析。  

4、可进行单晶外延膜等材料的退火研究/高温下的高分辨X射线衍射表征。 


Bruker D8 VENTURE微焦斑转靶单晶X射线衍射仪

联系人:阮音捷、程国峰

地址:上海市和硕路585号E楼201室

电话:021-69163600、021-69163558

邮件:ryj@mail.sic.ac.cn

gfcheng@mail.sic.ac.cn


  仪器参数:

  二维面探测器:采用CMOS成像技术探测器 

  Mo光源:阳极自转靶 

  光学系统:多层膜微聚焦光学系统 

  三轴(ω,2θ,φ)测角仪:角度重现性±0.0001° 

  液氮低温系统:温度范围80-500K 

  应用范围:

  1.单晶体原子坐标、键长键角、构型、原子的热振动、电子分布等结构信息表征; 

  2.单晶体原子占位、缺陷、成键作用等微观结构等信息的表征; 

  3.中低温下单晶材料的结构解析。