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检测服务
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仪器名称 |
测试项目 |
样品要求及说明 |
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高分辨率粉末X射线衍射仪 |
常规XRD扫描 |
粉末、表面平整的块体（Ф≤30mm，厚度≤5mm） |
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物相定性分析 |
粉末、表面平整的块体（Ф≤30mm，厚度≤5mm） | |
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物相定量分析 |
粉末 | |
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晶胞参数精确计算 |
粉末 | |
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结晶度 |
粉末 | |
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晶粒尺寸（微观应力） |
粉末 | |
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Rietveld结构精修 |
粉末 | |
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石棉定性 |
粉末或者表面平整的块体 | |
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石墨化度 |
粉末 | |
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高功率X射线衍射仪 |
常规XRD扫描 |
粉末、表面平整的块体（Ф≤30mm，厚度≤5mm） |
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晶胞参数精确计算 |
粉末 | |
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结晶度 |
粉末 | |
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晶粒尺寸（微观应力） |
粉末 | |
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掠入射XRD |
多晶薄膜 | |
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实时原位X射线衍射仪 |
高温XRD扫描 |
粉末或者表面平整的块体（尺寸约12mm×10mm或Ф10mm~13mm，厚度0.5mm~1mm） |
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中低温XRD扫描 |
粉末或者表面平整的块体（尺寸约12mm×10mm，厚度约0.5mm） | |
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电场原位XRD |
无 | |
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高分辨X射线衍射仪 |
X射线全反射（XRR）扫描 |
单晶外延薄膜 |
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高分辨XRD：Phi扫描、Rocking curve扫描、2theta-omega扫描 |
单晶外延薄膜或单晶 | |
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倒易空间 |
单晶外延薄膜 | |
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微焦斑二维衍射仪 |
残余应力（二维）及分布 |
无 |
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织构取向（二维） |
无 | |
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微区（0.02~0.5mm） |
无 | |
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微焦斑转靶单晶X射线衍射仪 |
单晶数据采集 |
单晶体 |
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单晶结构解析 |
单晶体 | |
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变温拉曼光谱仪 |
常规单谱 |
无 |
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超低波束（最低10cm-1，可测反斯托克斯峰） |
无 | |
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偏振拉曼 |
无 | |
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拉曼Mapping |
测试面平整 | |
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变温拉曼（室温-1500℃， -190℃-室温） |
高温样品尺寸＜Ф5mm，厚度＜1mm，低温样品尺寸＜Ф15mm，厚度≤3mm | |
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电化学原位拉曼 |
需要知道反应类型、用什么电极、什么电解液、测随电压变化还是随时间变化、是否大量产生气泡、是否需要密闭环境等，材料要提前测常规拉曼 | |
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电场原位拉曼 |
ITO电极或其他电极 | |
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形貌 |
干燥，表面起伏＜1μm，重量不超过100g，尺寸＜Ф40mm | |
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相位 |
干燥，表面起伏＜1μm，重量不超过100g，尺寸＜Ф40mm | |
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LFM（接触） |
表面起伏＜30nm，其它同上 | |
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PFM（接触）（电压10V） |
表面起伏＜30nm，其它同上 | |
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PFM（接触）（电压150V） |
表面起伏＜30nm，其它同上 | |
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cAFM（接触） |
表面起伏＜30nm，其它同上 | |
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EFM/MFM |
表面起伏＜1μm，其它同上 | |
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SKM/SCM |
表面起伏＜1μm，其它同上 | |
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力/电/磁学曲线（单点） |
同AFM-形貌 | |
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力分布（Mapping） |
同AFM-形貌 | |
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高温（室温~250℃） |
同各模式的要求 | |
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环境控制（液体或气氛） |
同各模式的要求 | |
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刻蚀 |
无 | |
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高分辨率X射线显微镜 |
三维成像 |
无 |
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原位（温度、力）三维成像 |
无 | |
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3D可视化图像和视频 |
无 |
