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卷对卷磁控溅射镀膜设备 当前位置:首页> 仪器装备>仪器设备种类>卷对卷磁控溅射镀膜设备

  功能简介: 

  器件可穿戴、柔性化是当前电子产品发展的一个趋势,而高质量的功能薄膜是微电子器件不可或缺的重要组成部分。磁控溅射是一种成熟高效的薄膜沉积技术,已广泛应用于科学研究及工业生产中。对柔性器件而言,由于其衬底材料的特殊性,容易在薄膜沉积过程中出现褶皱、翘曲、结合力差等问题。本套卷对卷磁控溅射镀膜设备,针对柔性薄膜器件专门设计,具有以下特点:(1)配备了张力控制和衬底升/降温系统,可有效解决衬底的自行翘曲和因溅射升温导致的衬底褶皱问题;(2)配备了高压电子轰击棒和离子源对薄膜进行前处理及后处理,对增强薄膜结合力、提升薄膜结晶质量具有显著功效;(3)系统拥有包含直流靶、射频靶在内的多个靶位,并可同时工作,可提升薄膜沉积效率,更有利于多层膜系的沉积;(4)系统具备膜厚和透光率在线监测系统,便于薄膜数据的收集和质量控制。 

    

  仪器型号与工作条件: 

  设备厂商:深圳市振恒昌实业有限公司,型号:JW-300。该套卷对卷磁控溅射镀膜设备镀膜辊直径φ1200mm,最大幅宽450mm,靶材尺寸460×90×5mm,衬底温度范围-5~200℃。 

    

  存放地点与联系人: 

  设备安放地址:长宁园区7号楼一楼东 

  联系人:徐小科,021-52412441 

    

  仪器图片: 

    

   

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