功能简介：

　　该设备用于ZrC、HfC等超高温陶瓷体系涂层的制备。采用固态的ZrCl4和HfCl4为锆源和铪源，以CH4气体为碳源，以H2为还原性气体，在1400-1600 进行高温化学气相沉积。 常规最高工作温度为1600 ，温度均匀性为 4.5 ，极限真空度为5.4Pa，空炉抽气速率为20min抽到20Pa。

 

　　仪器型号与工作条件：

　　设备厂商:湖南鼎立科技有限公司

　　型号: VCVD 0203；

　　工作条件：

　　（1）该设备仅用于ZrC的气相沉积，坩埚和气体需要自备

　　（2）需要在管理员的监管下自行操作。使用期间，人员不得离开

　　（3）按照管理规定完成预约申请资料的填写和审核

　　存放地点与联系人：

　　设备安放地址：嘉定园区A楼101室

　　联系人：高任，021-69906218 

　　  

　　仪器图片：