一种黑色二氧化钛光催化薄膜及其制备方法和应用--中国科学院上海硅酸盐研究所

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专利数据

专利名称:

一种黑色二氧化钛光催化薄膜及其制备方法和应用

专利类别:

发明

专利（申请）号:

202110068695.7

申请日期:

2021/1/19

第一发明人:

杨勇

其他发明人:

毛泉，黄政仁，刘学建，姚秀敏

专利授权日期:

2023/11/10