聚合物表面抗原子氧/截紫外改性膜层及其制备方法和应用--中国科学院上海硅酸盐研究所

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专利数据

专利名称:

聚合物表面抗原子氧/截紫外改性膜层及其制备方法和应用

专利类别:

发明

专利（申请）号:

202211564823.8

申请日期:

2022/12/7

第一发明人:

谷红宇

其他发明人:

吕少波，张锦麟，章俞之，宋力昕

专利授权日期:

2023/10/13