一种抗原子氧微纳多孔涂层及其制备方法--中国科学院上海硅酸盐研究所

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专利数据

专利名称:

一种抗原子氧微纳多孔涂层及其制备方法

专利类别:

发明

专利（申请）号:

202210207875.3

申请日期:

2022/3/3

第一发明人:

谷红宇

其他发明人:

唐登航，章俞之，吕少波，张锦麟，马佳玉，李昊耕，宋力昕

专利授权日期:

2023/6/6