一种基于电子背散射衍射花样的晶面间距测量方法--中国科学院上海硅酸盐研究所

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专利数据

专利名称:

一种基于电子背散射衍射花样的晶面间距测量方法

专利类别:

发明

专利（申请）号:

202010171439.6

申请日期:

2020/3/12

第一发明人:

彭帆

其他发明人:

曾毅，张积梅，林初城，刘紫微，姜彩芬

专利授权日期:

2023/3/10