一种高密度Ag纳米柱表面增强拉曼散射衬底的制备方法--中国科学院上海硅酸盐研究所

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专利数据

专利名称:

一种高密度Ag纳米柱表面增强拉曼散射衬底的制备方法

专利类别:

发明

专利（申请）号:

201810582128.1

申请日期:

第一发明人:

杨勇

其他发明人:

马云峰,杨莉莉,魏玉全,姚秀敏,刘学建,黄政仁

专利授权日期:

20200714