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专利数据

专利名称:

一种超薄蒙脱土纳米片及其制备方法和应用

专利类别:

发明

专利(申请)号:

201410315091.8

申请日期:

20140703

第一发明人:

王文中、孙松美

其他发明人:

专利授权日期:

20160106