专利名称:
一种超薄蒙脱土纳米片及其制备方法和应用
专利类别:
发明
专利(申请)号:
201410315091.8
申请日期:
20140703
第一发明人:
王文中、孙松美
其他发明人:
专利授权日期:
20160106