专利名称:
一种铜铟镓硒靶材的无压烧结制备方法
专利类别:
发明
专利(申请)号:
201310636716.6
申请日期:
20131127
第一发明人:
黄富强、刘战强、王耀明
其他发明人:
专利授权日期: