一种提高真空等离子体喷涂钨涂层结合强度的方法--中国科学院上海硅酸盐研究所

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专利数据

专利名称:

一种提高真空等离子体喷涂钨涂层结合强度的方法

专利类别:

发明

专利（申请）号:

201010216477.5

申请日期:

20100702

第一发明人:

牛亚然、郑学斌、季珩、黄利平、丁传贤

其他发明人:

专利授权日期:

20140618