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专利数据

专利名称:

有序介孔二氧化硅基荧光纳米材料及其制备方法

专利类别:

发明

专利(申请)号:

200910047888.3

申请日期:

20090320

第一发明人:

何前军、施剑林、陈雨、崔方明

其他发明人:

专利授权日期:

20130417