专利名称:
有序介孔二氧化硅基荧光纳米材料及其制备方法
专利类别:
发明
专利(申请)号:
200910047888.3
申请日期:
20090320
第一发明人:
何前军、施剑林、陈雨、崔方明
其他发明人:
专利授权日期:
20130417