高比表面基底负载Bi2WO6光催化膜、方法及应用--中国科学院上海硅酸盐研究所

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专利数据

专利名称:

高比表面基底负载Bi2WO6光催化膜、方法及应用

专利类别:

发明

专利（申请）号:

200910197580.7

申请日期:

20091022

第一发明人:

王文中、徐婕慧

其他发明人:

专利授权日期:

20130116