一类喹啉铝配位高分子的应用--中国科学院上海硅酸盐研究所

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专利数据

专利名称:

一类喹啉铝配位高分子的应用

专利类别:

发明专利

专利（申请）号:

200810034054.4

申请日期:

2008-2-28

第一发明人:

姜鹏

其他发明人:

专利授权日期: