一种提高等离子喷涂羟基磷灰石涂层结晶度的方法--中国科学院上海硅酸盐研究所

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专利数据

专利名称:

一种提高等离子喷涂羟基磷灰石涂层结晶度的方法

专利类别:

发明专利

专利（申请）号:

99124034.0

申请日期:

1999-11-19

第一发明人:

陶顺衍

其他发明人:

专利授权日期: