当前位置：仪器设备
研制设备
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高能球磨机（德国Fritsch公司，设备型号：Pulverisette 4） 应用范围：用于试样研磨到胶状细度（最小可达0.1μm），并进行混合、匀化和分散。 性能指标：最大进样尺寸：<10 mm；最大处理量：2 × 225 ml；最终精度：< 1μm |
行星式球磨机（南京南大天尊电子有限公司，设备型号：ND7-2L、ND7-10L） 应用范围：用于试样研磨到胶状细度（最小可达0.1μm），并进行混合、匀化和分散。 性能指标：最大球磨公转速率为150r/min；最终精度：< 1μm | ||
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框架液压机（徐州达一锻压设备有限公司，设备型号：YD34K-160） 应用范围：用于陶瓷素坯的成型。 性能指标：工作台面有效面积1000×900mm；公称力1600KN |
冷等静压机（山西金开源实业有限公司，设备型号：KJYc300-1000/350MPa） 应用范围：用于陶瓷、硬质合金、金属粉末、磁性材料、晶体等粉料的成型以及致密化。 性能指标：工作缸有效直径300mm；有效深度1000mm；最大压力250MPa | ||
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冷冻离心机（湖南湘仪离心机仪器有限公司，设备型号：DL-6M） 应用范围：应用于湿化学法制备粉体中的分离、沉淀。 性能指标：最高转速：6000r/min；温度设置范围：-20～40℃；转速精度：±10 r/min,最大容量：6×1000ml。 |
电热恒温干燥箱（德国MEMMERT，设备型号：UNB200、UNB400） 应用范围：用于简单的干燥过程、加热测试、老化实验等。 性能指标：温度区间30℃至220℃。 | ||
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数控超声波清洗器（昆山市超声仪器有限公司，设备型号：KQ-A2800KDE） 应用范围：适用样品的清洗、脱气、消泡、乳化、混匀、置换、提取等。 性能参数：温度范围10-80℃；超声功率500W。 |
电热恒温鼓风干燥箱（上海森信实验仪器有限公司，设备型号：DGG-9070BD） 应用范围：用于简单的干燥过程、加热测试、老化实验等。 性能参数：控温范围10-200℃；容积70L。 | ||
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马弗炉（上海意丰电炉有限公司，设备型号：SX2-4-10、SX2-8-10、SSX-2-16） 应用范围：粉体预处理，陶瓷后处理等 性能参数：正常使用温度区间600-1500oC |
台式箱式炉（合肥科晶材料技术有限公司，设备型号：KSL-1200X） 应用范围：前驱粉体处理，陶瓷后处理等。 性能参数：炉膛有效尺寸300×200×120mm；工作温度≤1100℃（连续工作），最高温度1200℃。 | ||
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高温箱式电炉（天津中环实验电炉有限公司，设备型号：SX-G05163） 应用范围：陶瓷样品退火、表面热腐蚀处理等。 性能参数：炉膛有效尺寸300×150×120mm；工作温度1350-1600℃（连续工作），最高温度1700℃。 |
高温硅钼棒炉（日本FULL-TECH，） 应用范围：陶瓷样品O2、N2、空气气氛退火及热腐蚀炉使用。 性能参数：正常使用温度区间1200-1650oC。 | ||
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高温气氛箱式炉（德国费舍尔（Thermconcept）热工有限公司，设备型号：HTK16/18） 应用范围：陶瓷样品的烧结与气氛退火处理。 性能参数：温度1200-1700℃，O2、N2、Ar。 |
真空包装机（上海星贝包装机械有限公司，设备型号：TC-400DD） 应用范围：素坯包封、样品防潮封装等。 性能参数：封口长度为400mm。 | ||
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喷雾干燥机（无锡市群征干燥设备有限公司，设备型号：BP-2000型） 应用范围：批量制备原料粉体。 性能参数：浆料进口温度90℃，出口温度70℃；进口风量180 m3/h，出口风量240 m3/h；离心雾化器转速8000 r/min；浆料泵送速率为30 mL/min。 |
真空气氛管式炉（上海全硕电炉有限公司，设备型号：QSH- VTF-1400T） 应用范围：真空或保护气氛中，多种温度段下材料的预烧、烧结、镀膜、扩散等工艺。 性能参数：工作温度800-1300℃（连续工作），最高温度1400℃。 | ||
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真空钨丝热压炉（上海辰荣电炉有限公司，设备型号：ZTY-50-18） 应用范围：用于功能陶瓷、透明陶瓷等在高温、高真空条件下进行热压烧结处理。 性能参数：最高可在900oC以下可加300MPa。 |
石墨热压炉（上海辰荣电炉有限公司，设备型号：HP-30-20） 应用范围：用于功能陶瓷、透明陶瓷等在高温、真空条件下进行热压烧结处理。 性能参数：温度800-1700℃，最大压力60MPa。 | ||
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真空钨丝炉（上海辰荣电炉有限公司，设备型号：ZW-50-20、ZW-30-20） 应用范围：高致密度结构陶瓷与透明陶瓷的烧结。 性能参数：最高温度1850oC，真空度可达10-4Pa |
高真空钨丝炉（美国Thermal Technology公司，设备型号：CPF 121212W-WW） 应用范围：用于在高温、高真空条件下烧结透明陶瓷。 性能参数：最高温度1850oC，真空度可达10-5Pa。 | ||
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热等静压设备（美国AIP公司，设备型号：AIP10-30H） 应用范围：预烧陶瓷样品后处理，制品得以进一步烧结致密化。 性能参数：有效炉膛空间φ150×300mm；使用条件温度1300-1800℃；最大压力200MPa |
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