激光基座加热单晶光纤炉

应用范围：可生长直径均匀、光学质量高的各类型单晶光纤，光纤直径可达200μm以下，生长速度最高为6000mm/h。

60#/50#温度梯度炉

应用范围：可实现高质量单晶的稳定生长，生长温度可达1600℃。

提拉炉

应用范围：可实现单斜、三斜等复杂晶系晶体的生长，生长得到的单晶材料质量优良，生长温度可达1600℃。

坩埚下降炉

应用范围：可实现高质量单晶的稳定生长，生长温度可达1600℃。

FLS980光谱测试仪

应用范围：测试光谱样品的发光性能，荧光效率，弛豫寿命等光谱性能。

测试波段：200～5000nm荧光发射/200～1700nm寿命

光学显微镜（XRF-330C）

应用范围：用于观察晶体样品的微观缺陷于表面形貌特征，分析其成因，控制晶体质量生长

X射线定向仪（DX-7B型）

应用范围：可用于常见晶体的晶体取向生长测试，精度在0.0001度内

应力仪（PTC-702）

应用范围：用于观察晶体样品的光学质量及晶体缺陷

低温/高温马弗炉（KSL-1400/1700X-A3）

应用范围：常用于晶体制备粉末原料样品的预烧结过程，烧结温度可达1400～1700℃

管式炉（GSL-1700X）

应用范围：可用于晶体粉末原料样品的预烧结过程，烧结温度可达1700℃

精密抛光机（JP035.4）

应用范围：可用于常见晶体样品的精密抛光

内圆切割机（J5060F1/J5025-1)

应用范围：用于对晶体样品的精细切割及加工技术，误差可控0.1mm内，最大加工行程110×100mm，最大加工尺寸为直径60×长度80mm

电热恒温鼓风干燥箱（DGG-9070BD）

应用范围：用于常见设备的干燥处理，温度波动在1℃范围内，最大温度可至310℃